沿革

昭和25年　3月　　めっき業を開始、伊勢崎市の板垣株式会社外注工場となり発電ランプの生産に従事する。

昭和32年　6月　　有限会社三共鍍金工業所を資本金50万円で設立法人化

昭和35年   6 月　　東京三洋電機株式会社が、群馬県大泉町進出に伴い指定。協力工場となりテレビ・コ－ルドチェ－ン・

　　　　　　　　　冷凍機・冷暖房機器の表面処理を行う。

昭和40年   5 月　　トランジスタ－の表面処理を開始。

昭和46年   1 月　　資本金を900万円に増資

昭和46年 12 月　　三共鍍金工業株式会社に組織変更、資本金を980万円に増資。

昭和49年   7 月　　半導体ICリ－ドフレ－ムの表面処理を開始。

昭和63年   6 月　　資本金を1,000万円に増資。

平成 6年    5 月　　フ－ドシステム（現パナソニック）製氷皿の溶融めっき処理を開始。

平成 7年    1 月　　資本金2,000万円に増資。

平成 7年  12 月　　東村に工業用地を取得、1年後の生産開始を予定。

平成 8年    2 月　　DOWA High Tech Philippines INC(DHP)工場めっきライン立ち上げ。

平成 8年    9 月　　東工場にMECO製めっき装置を2台設置(H-1.H-2号機）

平成 8年  10 月　　東工場生産開始。

平成 9年    1 月　　東工場24時間生産開始。

平成 9年    9 月　　SANYO Semiconductor Manufacturing Philippines Corporation（SSMP）工場めっきライン立ち上げ。

平成10年   8 月　　東工場にMECO製めっき装置を1台設置(H-3号機）

平成10年   9 月　　H-3号機（オランダMeco社製）一部生産開始。

平成10年 12 月　　H-3号機（オランダMeco社製）24時間生産開始。

平成11年   4 月　　鉛フリ－ラボ実験装置構築。

平成11年   8 月　　ISO 9001認証取得に向け始動。

平成12年 11 月　　三共株式会社へ社名を変更する。

平成12年 11 月　　ISO 9001 LiA-AC 認証機関にて認証取得。

平成13年   3 月　　ISO 14001認証に向け始動。

平成13年   4 月　　光山 紘 社長就任。

平成14年   3 月　　鉛フリ－（ビスマス）めっき量産を開始する。

平成14年 12 月　　東工場へ生産移管。

平成15年   4 月　　鉛フリ－装置2号機を設置。

平成15年 10 月　　ISO 9001 2000版認証を取得（EQA認証機関）

平成15年 11 月　　ISO 14001 認証を取得（EQA認証機関）

平成16年   4 月　　中国広東省東莞市、東莞清渓三清半導体厂工場敷地内にめっき工場を建設。

平成17年   1 月　　東村が市町村合併により伊勢崎市となる。それに伴い東村工場を伊勢崎工場に変更する。

平成17年   1 月　　東莞清渓三清半導体厂めっき工場 生産開始。

平成17年 11 月　　ISO 9001、ISO 14001サ－ベランス更新。

平成18年   3 月　　高橋 尚哉 社長に就任。

平成19年   9 月　　資本金4,000万円に増資。

平成19年 11 月　　ISO 9001、ISO 14001サ－ベランス更新。

平成20年   8 月　　ウォ－タ－ジェット装置新方式の導入。

平成20年   9 月　　ぐんまスタンダ－ド環境GS認定。

平成21年 12 月　　銀めっきライン稼働、生産開始。

平成22年   4 月　　めっき装置3号機の導入。

平成22年   5 月　　光沢、半光沢すず、銀めっきラインの工程拡大。

平成23年   2 月　　めっき装置3号機の改造による製品拡張（車載製品）

平成23年   5 月　　製品脱脂方法の確立（脱フロン対応）

平成23年   8 月　　自動ウォ－タ－ジェット装置の増設（半導体フレ－ム用）

平成24年   3 月　　自動めっき装置（ニッケル）の導入。

平成24年   6 月　　めっき装置（オ－トギルダ－方式）の導入。

平成24年   7 月　　手付け銀及び半光沢ラインの拡充。

平成25年   3 月　　自動めっき装置（オランダMeco社製）の導入。

平成26年   2 月　　自動めっき装置 SG-1の導入。

平成26年   6 月　　全自動亜鉛めっき装置の導入。

平成26年   7 月　　バランスウェイト量産開始